档案馆建筑 "印玺"是一座坐落于中国湖北武汉的档案馆建筑。建筑总建筑面积为57,487平方米,高66米。其形体将塔楼与裙房相结合,使低层部分释放出共享空间,并将档案库房置于高层。公众流线与专业流线相互分离。立面设计灵感源自中国印章,呈现出这座城市历史事件的时间脉络。项目采用本地材料与低碳技术。多功能厅与大型会议室向公众开放。
项目名称 : Seal , 设计师的名字 : Central-South Architectural Institute, 客户姓名 : Central-South Architectural Design Institute Co.,Ltd. .
这项出色的设计在建筑，建筑和结构设计竞赛中获得了铜奖。 您肯定应该看到屡获青铜奖的设计师的设计作品集，以发现许多其他新的，创新的，原始的和有创意的建筑，建筑和结构设计作品。
